2N7002/HAMR 产品实物图片
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注:图像仅供参考,请参阅产品规格

2N7002/HAMR

商品编码: BM0084327713
品牌 : 
Nexperia(安世)
封装 : 
SOT-23
包装 : 
编带
重量 : 
1g
描述 : 
场效应管(MOSFET) 830mW 60V 300mA 1个N沟道 SOT-23
库存 :
2699(起订量1,增量1)
批次 :
24+
数量 :
X
0.237
按整 :
圆盘(1圆盘有3000个)
合计 :
¥0
梯度
内地(含税)
香港
1+
¥0.237
--
200+
¥0.154
--
1500+
¥0.133
--
30000+
产品参数
产品手册
产品概述

2N7002/HAMR参数

FET 类型N 通道技术MOSFET(金属氧化物)
漏源电压(Vdss)60V25°C 时电流 - 连续漏极 (Id)300mA(Tc)
驱动电压(最大 Rds On,最小 Rds On)4.5V,10V不同 Id、Vgs 时导通电阻(最大值)5 欧姆 @ 500mA,10V
不同 Id 时 Vgs(th)(最大值)2.5V @ 250µAVgs(最大值)±30V
不同 Vds 时输入电容 (Ciss)(最大值)50pF @ 10V功率耗散(最大值)830mW(Tc)
工作温度-65°C ~ 150°C(TJ)安装类型表面贴装型
供应商器件封装TO-236AB封装/外壳TO-236-3,SC-59,SOT-23-3

2N7002/HAMR手册

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2N7002/HAMR概述

2N7002/HAMR 产品概述

2N7002/HAMR是一款高性能的N沟道金属氧化物半导体场效应管(MOSFET),广泛应用于各种电子电路中,尤其是开关和放大器电路。作为一种MOSFET,2N7002能够在低电压控制下实现高效的电流开关,提供更高的效率和更低的功耗,因此适合于现代电子设备的设计需求。

基本参数

  1. FET 类型: 这款器件为N通道MOSFET,意味着它利用n型掺杂材料来提高电流的流动性,适合于大多数开关应用。
  2. 技术: 采用金属氧化物半导体技术,具有良好的开关特性和高输入阻抗。
  3. 漏源电压(Vdss): 最大漏源电压为60V,使其适用于中低电压的功率应用。
  4. 连续漏极电流(Id): 在25°C环境温度下,器件能够支持高达300mA的连续漏极电流,对于很多设计来说,这一参数提供了充分的灵活性。
  5. 驱动电压: 2N7002的驱动电压分别为4.5V和10V。在指定的电压下可获得最佳的导通电阻,适配不同电压组合下的应用场景。
  6. 导通电阻(Rds On): 在500mA和10V的条件下,最大导通电阻为5欧姆。更低的电阻意味着在开关过程中能耗更低,效率更高。
  7. 阈值电压(Vgs(th)): 在250µA下测试,最大阈值电压为2.5V,这对电路设计者来说是一个重要的参数,方便他们计算开关动作的灵敏度。
  8. Vgs(最大值): 器件的栅源电压最大承受能力为±30V,为电路提供了更好的安全性和抗干扰能力。
  9. 输入电容(Ciss): 在10V下最大输入电容为50pF,显示出其良好的频率响应特性。
  10. 功率耗散: 最大功率耗散为830mW(在环境温度Tc条件下),这使得它在高功率密度的应用中表现出色。
  11. 工作温度范围: 它支持-65°C至150°C的工作温度范围,适合于严苛环境下应用,确保器件在各种温度条件下仍能稳定工作。
  12. 安装类型: 采用表面贴装型设计,适合于当前流行的PCB制造技术,便于自动化生产。
  13. 封装类型: 器件封装为TO-236AB,即SOT-23封装,体积小,易于密集布置与散热设计。

应用场景

2N7002/HAMR适合于多种电子应用,尤其是在便携式设备、消费电子、工业控制以及电源管理等领域。典型应用包括:

  • 开关电源:由于其低导通电阻和相对较高的电压承受能力,2N7002在开关电源电路中可作为高效的开关元件,有效提升电源转换效率。

  • 低功耗放大器:该MOSFET能够用于低功耗音频放大器和信号放大电路,提供高输入阻抗和较低的失真。

  • 数字电路:在逻辑电平转换、信号整形和其他数字应用中,2N7002可作为开关元件用于控制信号线,处理各种逻辑信号。

  • 驱动电路:它能够驱动各种负载,包括小电机、继电器以及LED等,凭借较高的耐压和电流能力,确保驱动的可靠性。

总结

2N7002/HAMR以其卓越的电气性能和广泛的适用性,成为设计师和工程师日常电路设计中不可或缺的元器件。凭借其高效的开关能力和出色的功率处理能力,2N7002在现代电子设备中体现了无与伦比的灵活性和性能。无论是在消费电子产品,还是在工业自动化系统中,2N7002都能够为电子设计带来积极的影响,是高性能电路设计的理想选择。