DMN53D0LW-7 产品实物图片
DMN53D0LW-7 产品实物图片
商品图片1
商品图片2
商品图片3
注:图像仅供参考,请参阅产品规格

DMN53D0LW-7

商品编码: BM69418967
品牌 : 
DIODES(美台)
封装 : 
SOT323
包装 : 
编带
重量 : 
0.014g
描述 : 
场效应管(MOSFET) 320mW 50V 360mA 1个N沟道 SOT-323-3
库存 :
9(起订量1,增量1)
批次 :
22+
数量 :
X
0.296
按整 :
圆盘(1圆盘有3000个)
合计 :
¥0
梯度
内地(含税)
香港
1+
¥0.296
--
200+
¥0.191
--
1500+
¥0.166
--
45000+
产品参数
产品手册
产品概述

DMN53D0LW-7参数

FET 类型N 通道技术MOSFET(金属氧化物)
漏源电压(Vdss)50V25°C 时电流 - 连续漏极 (Id)360mA(Ta)
驱动电压(最大 Rds On,最小 Rds On)5V,10V不同 Id、Vgs 时导通电阻(最大值)2 欧姆 @ 270mA,10V
不同 Id 时 Vgs(th)(最大值)1.5V @ 100µA不同 Vgs 时栅极电荷 (Qg)(最大值)1.2nC @ 10V
Vgs(最大值)±20V不同 Vds 时输入电容 (Ciss)(最大值)45.8pF @ 25V
功率耗散(最大值)320mW(Ta)工作温度-55°C ~ 150°C(TJ)
安装类型表面贴装型供应商器件封装SOT-323
封装/外壳SC-70,SOT-323

DMN53D0LW-7手册

empty-page
无数据

DMN53D0LW-7概述

DMN53D0LW-7 产品概述

一、产品简介

DMN53D0LW-7是一款高性能的N沟道MOSFET,采用SOT-323封装,设计用于广泛的应用场合,特别是在需要高效率和低功耗的场景中。该MOSFET具有卓越的电气性能,能够有效地处理50V的漏源电压和360mA的连续漏极电流,适合用于各种开关电源、驱动电路及负载管理解决方案。

二、技术规格

  • FET类型: N通道
  • 技术: MOSFET(金属氧化物场效应晶体管)
  • 漏源电压(Vdss): 50V
  • 工作电流(Id): 25°C条件下最大连续漏极电流为360mA
  • 驱动电压:
    • 最大Rds On时的驱动电压:5V
    • 最小Rds On时的驱动电压:10V
  • 导通电阻(Rds On): 在10V时,270mA条件下最大值为2Ω
  • 阈值电压(Vgs(th)): 在100µA条件下最大值为1.5V
  • 栅极电荷(Qg): 在10V条件下最大为1.2nC
  • 栅极-源极电压(Vgs): 最大值为±20V
  • 输入电容(Ciss): 在25V时最大值为45.8pF
  • 功率耗散(Pmax): 最大320mW(Ta)
  • 工作温度: -55°C至150°C(TJ)
  • 封装类型: 表面贴装型(SOT-323)

三、应用领域

DMN53D0LW-7适用于各种电子设备的高效开关和信号处理,主要应用场景包括:

  1. 电源管理: 使用DMN53D0LW-7,可以在开关电源中实现高效的电源转换和管理。
  2. 负载开关: 该MOSFET能够平稳地驱动负载,适合在智能家居和工业控制中广泛应用。
  3. 低功耗电路: 因其出色的Rds On性能,DMN53D0LW-7能够有效降低电路的功耗,提高系统的能效。
  4. 便携式设备: 小型封装使其非常适合用于空间受限的便携式设备,如手机、手持设备和便携式充电器。

四、优势与特点

  1. 高效性能: 低导通电阻和高连续漏极电流能力,使得DMN53D0LW-7在高频和大电流的应用中表现优异。
  2. 宽广工作温度: 工作温度范围 -55°C 至 150°C 使其在极端环境下依然能够稳定工作。
  3. 小型化设计: SOT-323封装优化了空间利用率,适合紧凑型电路设计,提高了设计灵活性。
  4. 简化驱动: 适宜的阈值电压和栅极电荷,使得DMN53D0LW-7能够方便和快速地响应输入信号,从而简化电路设计。

五、市场定位与总结

作为美台半导体(DIODES)的一款高可靠性产品,DMN53D0LW-7不仅满足了现代电子产品对高效能、高规格的要求,还解决了小型化和功率密度增加所带来的挑战。其优异的电气性能以及广泛的应用适应性,使得DMN53D0LW-7在众多市场中占有一席之地,为设计工程师提供了极具价值的选择。

总之,DMN53D0LW-7是一款高性能、低功耗、高温度适应性的N通道MOSFET,适合用于多种电子应用中,是现代电子设计的重要组成部分。使用此产品,可以提高系统的整体性能和能效,助力各种技术应用的发展。