TMC(台懋)

台懋科技股份有限公司成立于 1988 年，是一家专注于光掩模制造及半导体相关产品研发、生产与销售的企业 。公司在光掩模制造领域拥有 35 年的经验，不断推进技术进步和产能扩张，以满足客户日益增长的光刻需求，其目前的主要产品为 40nm 和 65nm 工艺的光掩模. 台懋科技以其卓越的可靠性和强大的支持服务为基础，正在新竹科学园区建设新的制造工厂，以实现业务的进一步拓展，这也是其长期战略规划的一部分，旨在超越光掩模领域，提供更广泛的产品和服务. 此外，台懋科技还是一家集设计、制造、销售于一体的中低压 MOSFET 服务商，其 Tritech-MOS 品牌的中低压 MOSFET 产品具备高效率、高耐压、低损耗、高速开关和高集成度等特性，而 IGBT 产品具备高效能转换、高可靠性、强驱动、高耐用性等特点，LDO 系列产品以高电源抑制比、低噪声、宽工作范围、高精度特性受到市场青睐.